第642章 新一代光刻機

  渝州大學城的建設，是渝州打造科技產業高地的一個重大舉措，為的就是形成產學研體系，讓渝州的經濟從傳統的工業經濟向著知識經濟進行轉型。

  用現代的科技知識來賦能傳統的工業往更高水平進行發展。

  聯合大學的是渝州大學城規劃當中的一所很是重要的學校。

  渝州大學城自然不是新劃一塊地完全全新建設，實際上在之前的時候，這片區域內，就已經有大學了。

  渝州應用技術大學就坐落在這裡。

  劃定這邊作為大學城，很重要的一個原因，這裡地方夠寬敞。

  渝州應用技術大學在這邊進行建校，也看中的，就是這邊面積足夠大。

  另外，離城市也比較近。

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  現在雖然是郊區，可過上幾年時間，就會迅速的發展成為城市。

  然後市裡面在規劃大學城的時候，實際上也有一些其他的選擇。

  陳懷慶建議啊，要把大學城給安排在城市的邊緣位置。

  在十年後，大學城要發展成為城市的中心位置。

  為什麼要讓大學城位於城市之中呢？

  很簡單的一個原因，那就是大學城在偏遠的地方，那就沒有辦法和城市經濟有機的聯繫在一起了。

  畢竟建設大學城就是想要形成集中的智力資源。

  智力資源實際上屬於人才資源的一種，人得要聚集在一起，才是能夠展現出來強大的。

  聯合大學在整個大學城的高校建設當中，屬於相當快速的，從決定搞到修建好，用時上極其的短。

  錢到位，市裡面也是全力的支持。

  聯合大學現在的發展勢頭上面相當之迅猛。

  現在也就是沒有一個大學排名的榜單，不然的話，聯合大學的排名，肯定會接連不斷的上漲。

  特別在學術這塊。

  陳懷慶一直以來都是覺得，大學更加適合從事基礎性的研究工作。

  因為這和大學的屬性是相互匹配的。

  基礎性研究需要花費很多的時間，也需要超高的耐心。

  不僅僅是研究人員得有耐心，決策者也是需要有耐心。

  因為很多的基礎研究，數年沒有成果，那都算短的。有的十幾年的堅持，依舊沒有什麼成果出來。

  大學裡面，有著相當多的便宜甚至可以稱之為免費的人力資源可以使用。

  科研民工好像特製的那些在讀博士生。

  此時華國的在讀博士生並不算是多，每一名博士生都屬於相當精貴的存在。

  讀博並不是為了提升自己的學歷來為找上一份好工作作為籌碼。

  此時的人讀博，那真的屬於準備投身於科研事業才做出的選擇。

  有這些優秀的智力資源可以使用，可以在很大程度上面降低在基礎研究領域的經費投入。

  當然了，最為重要的一點，還能夠順便的培養一下人才。

  像是墨塔技術研究院，那全部都是從事應用技術方面的研究，出成果那是相當快速的。

  基本長者幾個月，短者十幾天就能夠把可商業化應用的成果給搞出來。

  可以每年花費的經費，也是相當的感人。

  要不是研發出來的技術有著超強的變現能力，都得要承受不住了。

  除了聯合大學的事情之外，另外一件事情，也是讓陳懷慶很是在意。

  那就是Mota400光刻機。

  Mota400光刻機是墨塔微電的最新之作，大量採購了國外的一些零部件，在一些核心部件上面，Mota400也是有國產的部件。

  相比起Mota800光刻機相比，Mota400光刻機在一開始的時候，零部件的國產化率就要高出很多。

  像是Mota800光刻機在剛出的時候，國產化率只有百分之二十幾，而到了現在，Mota400光刻機的國產化率直接是百分之四十起步的。

  提升了十幾個百分點。

  這無疑來講，是一個相當巨大的進步。

  Mota400光刻機屬於第二代光刻機，是Mota800的升級版產品。

  可以實現最小400nm的工藝節點，當然，通過特殊的工藝製程的話，可以生產更低節點工藝的晶片。

  只不過在成本上面，可能會是稍稍貴了那麼些。

  光刻機最為重要的，就是光源。

  現在採用的光源都屬於深紫外光。

  第一代光刻機採用的波長436nm的g-line光源，現在的光刻機採用波長365nm的i-line光源。

  下一代光源也已經確定了，是波長248nm的KrF光源。

  第四代的時候，採用波長193nm的ArF光源。

  但是，已經有一個新的概念被提了出來，那就是極紫外光刻機。

  這可能很多人都不熟悉，換上一個說法：EUV光刻機。每一次光源的改進，都是能夠顯著提升光刻機所能實現的最小工藝節點。

  只不過極紫外光刻機這個新概念被提了出來，但是卻沒有企業往這個上面投錢。

  很簡單的原因，極紫外光想要作為光源用到光刻上面，技術難度實在有著些過於的高了些。

  反正，這屬於一個概念性的東西。

  市場上面的光刻機，還依舊的能夠滿足需求，大家對於這極紫外光刻機並不急著要。

  實際上，Asml在1999年的時候才開始進行EUV光刻機的研發工作。

  計劃是通過五年時間，在2004年的時候，就推出EUV光刻機產品。

  但是到了2010年才是搞出第一台EUV光刻機原型機，2016年才是向下遊客戶正式供貨。

  憑藉著EUV光刻機，Asml也是一舉成為全球光刻機領域當之無愧的最大巨頭。

  光源對於光刻機的重要性，實在過於的重要了一些。

  陳懷慶也是看過一些報導，說華國在極紫外光源上面是有著突破的。

  也不知道具體情況到底如何。

  網絡上面的新聞，這很多都只是看上一個樂就行。

  除了光源之外，工作檯和新的光刻技術創新，也是能夠提升最小工藝節點和生產效率以及產品良品率。

  此時大家對極紫外光刻機沒有什麼信心，可是陳懷慶卻知道，這東西真的能行啊！

  所以陳懷慶已經要求墨塔微電研發EUV光刻機，並且在投入上面，還不小。

  首先就是在光源技術上面，得要先研究出來大功率的極紫外光源才行。

  陳懷慶覺得，肯定沒有什麼問題的。

  他可是記得，米國一直在推雷射武器的概念。

  然後華國的雷射武器都已經可以實戰化了，然後米國一下子就啞火了。

  自己提出來的概念，怎麼華國給先搞了出來？

  極紫外光刻機是米國那邊提出來的，為了打壓霓虹的半導體行業，對於極紫外光刻機的研究，根本就不要霓虹參與進來。

  事實上，靠著美歐的能力，整個研究顯得很吃力。